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桌面型小型離子濺射儀采用先進(jìn)的控制系統(tǒng)和真空技術(shù)

發(fā)布時(shí)間: 2024-07-25  點(diǎn)擊次數(shù): 55次
  桌面型小型離子濺射儀是一種用于薄膜沉積和表面處理的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備,主要利用離子轟擊技術(shù)將材料原子濺射到基底表面上,形成薄膜或進(jìn)行表面改性。廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)研究、表面工程領(lǐng)域以及光電子學(xué)、納米技術(shù)等領(lǐng)域。
 

 

  桌面型小型離子濺射儀的工作原理:
  1.真空系統(tǒng):離子濺射儀的操作需要在高真空環(huán)境下進(jìn)行,確?;妆砻媲鍧崯o塵。
  2.氣體放電:通過加入一個(gè)稀薄的氣體(如氬氣)到真空室中,并通過設(shè)置電場(chǎng),在陰極發(fā)射電子的過程中形成等離子體。
  3.離子加速:在等離子體中離子被加速并聚集,然后被引導(dǎo)至靶材表面。
  4.離子轟擊:離子撞擊靶材表面,使得靶材表面的原子被濺射出來,并以高速沉積到基底表面,形成薄膜。
  5.薄膜沉積:被濺射出的原子在基底表面上沉積,形成所需的薄膜結(jié)構(gòu)。
  技術(shù)特點(diǎn):
  1.小型化設(shè)計(jì):占地面積小,適合實(shí)驗(yàn)室使用,方便搬運(yùn)和安裝。
  2.高精度控制:可對(duì)離子能量、沉積速率、成膜厚度等進(jìn)行精確控制,滿足各種實(shí)驗(yàn)需求。
  3.多功能操作:支持不同的離子濺射模式、多種靶材替換及沉積材料,適用于各種材料和薄膜的制備。
  4.系統(tǒng)穩(wěn)定性:采用先進(jìn)的控制系統(tǒng)和真空技術(shù),確保系統(tǒng)穩(wěn)定性和操作可靠性。
  5.易操作性:配備友好的操作界面和軟件控制,操作簡(jiǎn)便,適用于科研人員和技術(shù)人員使用。
  桌面型小型離子濺射儀的應(yīng)用場(chǎng)景:
  1.薄膜研究:用于制備各種功能性薄膜,如透明導(dǎo)電膜、防反射膜、硬質(zhì)涂層等。
  2.材料表面改性:通過離子轟擊處理,改善材料的表面性能,如提高附著力、增強(qiáng)耐磨性等。
  3.納米技術(shù):用于制備納米結(jié)構(gòu)材料,如納米顆粒、納米線等。
  4.光學(xué)薄膜:制備光學(xué)薄膜,如反射膜、濾光片等。
  5.光電子學(xué):制備半導(dǎo)體薄膜,用于光電子器件的制備和研究。

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